全球与中国半导体CMP过滤器市场现状及未来

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　　CMP是指半导体产业中晶圆生产的研磨工艺，它使用研磨工具与研磨抛光液将晶圆变得光滑，研磨抛光液的浆料颗粒从30-200μm广泛分布，按标准应该把浆料颗粒控制在0.5μm以内。如果不过滤掉大于0.5μm的颗粒将导致晶圆表面被刮伤，于是浆料过滤便成为该工艺的关键点。本文统计半导体CMP过滤器市场。

　　[url=http:///www.pall.cn/zh_cn/microelectronics/semiconductor.html]半导体过滤[/url]的核心厂商包括颇尔、科百特和应特格等，前三大厂商约占98%的份额。从产品角度来看，90-55nm技术节点的产品为最大的细分，市场份额约为40%。从应用方面来看，芯片生产是最大的下游市场，约占37%的份额。

　　本报告研究全球与中国市场半导体CMP过滤器的产能、产量、销量、销售额、价格及未来趋势。重点分析全球与中国市场的主要厂商产品特点、产品规格、价格、销量、销售收入及全球和中国市场主要生产商的市场份额。历史数据为2017至2021年，预测数据为2022至2028年。